主要技术指标

XY方向单次扫描范围 50×50mm，一次扫描完成，无需进行图像拼接。 XY方向最小扫描步长 0.1μm 扫描速度 10mm/s Z方向允许样品的最大高度 110mm Z方向测量范围 300μm Z方向测量分辨率 8nm 横向光学分辨率 1.2μm 工作距离 11mm 最大测量坡度 85° Z方向测量范围 3mm Z方向测量分辨率 50nm 横向光学分辨率： 3μm 工作距离 16.4mm 最大爬坡能力 85°

主要功能/应用范围

美国 NANOVEA 公司是一家全球公认的在微纳米尺度上的光学表面形貌测 量技术的领导者，生产的三维非接触式表面形貌仪是目前国际上用在科学研究和 工业领域最先进表面轮廓测量设备之一，采用目前国际最前端的白光轴向色差原 理（性能优于白光干涉轮廓仪与激光干涉轮廓仪）对样品表面进行快速、重复性 高、高分辨率的测试分析，通过专业的三维分析软件可得到产品表面的任意参数， 例如：二维高度曲线分布图，二维等高线分布图，三维表面形貌图、孔的深度， 孔的宽度，孔的面积，孔的体积，台阶高度、一维线粗糙度参数、二维线粗糙度 参数，样品的波纹度、功率谱密度，表面高度分层统计，自相关统计等表面参数 的测量。

服务内容

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服务的典型成果

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对外开放共享规定

对外开放预约

参考收费标准

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