最新公告：
单位
磁控溅射系统
仪器名称：磁控溅射系统
规格型号：JGP-560
分 类：其他
应用领域：物理学
所属单位：河北北方学院
产 地：中国
厂 商：中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司
价 值：143.4万
购置日期：2010-11-20
使用状态：
共享模式： 内部共享
资源信息
主要技术指标
JGP-560，真空室尺寸：梨型真空室，真空系统配置：分子泵、机械泵、闸板阀，极限压力：≤2.0x10-5Pa (经烘烤除气后) ，恢复真空时间：40分钟可达到6.6x10-4Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)，样品尺寸：Ф65mm，可放置4片，加热基片加热最高温度：500°C±1°C 。
主要功能/应用范围
用于单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备，广泛的应用于高等院校、科研院所的薄膜材料科研。
服务内容
用于开展ZnO等薄膜的实验制备
服务的典型成果
无
对外开放共享规定
科研合作共享
参考收费标准
不收费
联系信息
| 仪器联系人： | 王延峰 | 联系电话： | 0313-4029189 |
| 电子邮箱： | 传 真： |
评价信息