高真空磁控溅射薄膜沉积系统
仪器名称:高真空磁控溅射薄膜沉积系统
英文名称:
规格型号:定制
分 类:其他仪器
应用领域:自然科学相关工程与技术
所属单位:河北省科学院应用数学研究所
产 地:中国
厂 商:定制
价 值:96.9万
购置日期:2023-12-19
使用状态:
资源信息
主要技术指标
沉积直径≤76.2毫米
极限真空5*10-8Pa
主要功能/应用范围
科研
服务内容
实验分析
服务的典型成果
—
对外开放共享规定
实时对外共享
参考收费标准
按需求核算工作量进行收费
联系信息
仪器联系人: |
安晓明 |
传 真: |
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电子邮箱: |
1411459079@qq.com |
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评价信息