高真空磁控溅射薄膜沉积系统

仪器名称:高真空磁控溅射薄膜沉积系统

英文名称:

规格型号:定制

分  类:其他仪器

应用领域:自然科学相关工程与技术  

所属单位:河北省科学院应用数学研究所

产  地:中国

厂  商:定制

价  值:96.9万

购置日期:2023-12-19

使用状态:

资源信息

主要技术指标

沉积直径≤76.2毫米 极限真空5*10-8Pa

主要功能/应用范围

科研

服务内容

实验分析

服务的典型成果

对外开放共享规定

实时对外共享

参考收费标准

按需求核算工作量进行收费

联系信息
仪器联系人: 安晓明 传  真:
电子邮箱: 1411459079@qq.com
评价信息