主要技术指标

二次电子成像分辨率: 0.7 nm@15 KV，1.0 nm@1 KV加速电压：0.05-30 KV 离子束成像分辨率: ＜2.5 nm@30 KV，加速电压：0.5-30 KV 样品台: X: 130 mm　Y: 130mm　Z: 90 mm 倾斜:-80° ~ +90°　旋转: 360°无限

主要功能/应用范围

该电镜主要用于对试样进行切割、加工、沉积，从事内部和截面观察及特定图形加工工作，尤适合制备定区域的TEM薄片。 特色：最新的显著TrilavTMSEM电子镜筒设计及专有的三物镜系统；无交叉斑及超高分辨透镜的组合提供了杰出的图像质量；FIB 铣削或沉积时SEM同时成像（两套独立的扫描发生器）；实时电子束追踪技术，模拟和实现电子束优化，可直接连续控制束斑和束流大小。

服务内容

详情请联系仪器负责人

服务的典型成果

暂无

对外开放共享规定

暂无

参考收费标准

1800元/小时