最新公告: 关于开展2025年度河北省大型科研仪器 设备开放共享服务审核工作的通知 [09-05]   科技部办公厅 财政部办公厅关于开展2025年中央级高等学校和科研院所等单位重大科研基础设施和大型科研仪器开放共享评价考核工作的通知 [07-07]   关于征集重大科研基础设施和大型科研仪器国家网络管理平台专家库专家的通知 [06-19]  
门户 仪器
当前位置:首页>>仪器设备
高真空磁控溅射薄膜沉积系统

仪器名称:高真空磁控溅射薄膜沉积系统

规格型号:TRP450F1300

分  类:其他仪器

应用领域:机械工程  材料科学  物理学  化学  冶金工程技术  

所属单位:唐山学院

产  地:中国

厂  商:中国科学院沈阳科学仪器有限公司

价  值:32.68万

购置日期:2023-12-22

使用状态:

共享模式: 外部共享

资源信息

主要技术指标

真空度3×10-6Pa

主要功能/应用范围

功能薄膜是一类在电、磁、光、热等方面有特殊性质的薄膜材料,常用于制造各种装备中具有独特功能的核心部件。高真空磁控溅射薄膜沉积系统可制备超导、磁性、半导体等功能薄膜。高质量的超导薄膜在量子计算机中具有重要应用价值。量子计算机在天气预报、制药研制、保密通讯及破译方面均有巨大应用。磁性薄膜材料广泛应用于机器人系统,制造计算机存储器,光通信中的磁光调制器、光隔离器和光环行器等;也用作磁记录薄膜介质和薄膜磁头,以及磁光记录盘等。半导体薄膜可用于制造晶体管、太阳能电池、金属-半导体-金属光电探测器和量子阱激光器等。

服务内容

制备薄膜

服务的典型成果

制备金属膜,化合物等

对外开放共享规定

样品制备设备对外服务周期较长

参考收费标准

每小时100元

联系信息
仪器联系人: 段秀芝 联系电话: 13931550125
电子邮箱: xiuzhiduan@tju.edu.cn 传  真:
评价信息